Бурхливий розвиток всіх сучасних технологій значною мірою базується на розвитку і доступності елементів електроніки, які забезпечують функціонування більшості звичних для нас речей – від пульта телевізора до штучного інтелекту. Переднім краєм технологій вже багато років вважаються технології які базуються на якомога менших розмірах напівпровідникових структур. Зокрема, процесори на основі технології 2 нм вже є реальністю. Однак, це означає і неможливість подальшого прогресу технологій шляхом мініатюризації, а потребу в пошуку альтернативних матеріалів і концепцій. Крім того, існує величезна кількість застосувань, які або й не потребують таких критично малих розмірів, зокрема різноманітні сенсори, або ж не реалізуються в нанометрових пристроях через фундаментальні фізичні обмеження. Зокрема, оптоелектронні технології, особливо інфрачервоного та терагерцового діапазону, можливі лише на елементах порядку величини довжини хвилі відповідного діапазону – тобто від субмікрометрового до десятків мікрометрів. Тож активний пошук нових матеріалів чи нових способів їх більш ефективного застосування невпинно продовжується і в області мікронних технологій. Даний проект націлений на створення інфраструктури для застосування безмаскової фотолітографії (БФЛ), яка б дозволила розробку пристроїв мікро- та оптоелектроніки широкого спектру архітектури та застосування. Технологія БФЛ дозволяє формування робочих елементів довільної форм за аналогією до лазерного гравера – шляхом “малювання” оптичним (лазерним) променем на плівці фоторезисту чи активного елемента. Форму і розміри елементів можна легко змінювати в налаштуваннях програми, що значно пришвидшує процес розробки певного мікроелектронного елемента, оскільки не потребує щоразу виготовлення фотошаблону, що є складною і дороговартісною технологією, практично відсутньою в Україні. На першому (звітному) етапі проекту було проведено дослідження можливості керованої модифікації властивостей різних видів матеріалів за допомогою комерційних лазерних граверів. Це був підготовчий етап, для встановлення найбільш перспективних матеріалів та режимів опромінення (довжина хвилі, потужність, імпульсний чи неперервний режим випромінювання). На основі отриманих даних, на наступних етапах проекту буде проводитися відпрацювання технології високороздільної безмаскової фотолітографії за допомогою сучасного фотолітографа, запланованого до придбання в наступному році.