• Нагрівання підкладки підвищує рівномірність лазерної обробки, зменшуючи необхідну густину потужності, зберігаючи той самий ефект, та мінімізуючи термічні напруги між нагрітою плівкою та холоднішою підкладкою, а також відповідні ефекти (розтріскування, розшарування, скручування плівки тощо).

• Обробка при низькій щільності потужності може сприяти очищенню поверхні (видалення адсорбованих шарів органічного забруднення, оксидів тощо).

• Обробка при щільності потужності (0,5–0,9)×10⁶ Вт/см² та температурі підкладки 150°C сприяє кристалізації аморфної плівки з утворенням нанозернистої структури розмірами 50–100 нм та 150–300 нм відповідно.

• При щільності потужності ~10⁶ Вт/см² утворюються мікрокраплі VO_x розміром 1–2 мкм, що демонструють сильну поздовжню текстуру, на яку впливає рельєф підкладки. Висота крапель становить 120–180 нм.

• Раманівська спектроскопія підтвердила лазерно-індуковану кристалізацію аморфного оксиду ванадію з утворенням певних політипів залежно від густини потужності лазера та температури підкладки.

• Лазерний відпал за кімнатної температури призвів переважно до кристалізації фази V₂O₅.• Сукупний вплив нагрівання підкладки до 150°C та високої густини потужності (1,3-1,8)×10⁶ Вт/см⁻² дозволив утворити кристалічну фазу VO₂(М⁻²), тоді як суміш фаз VO₂ та V₂O₅ утворювалася при помірній густині потужності (0,5-1,3)×10⁶ Вт/см⁻².